JCP-350超高真空多功能磁控溅射镀膜机

1、 设备型号：JCP-350，
主要用于制备微、纳米尺度单层及多层导电膜、半导体膜、绝缘膜以及镍、钴磁性材料等薄膜材料。
2、 技术参数：
真空系统复合分子泵+直联旋片泵，真空极限优于6.0×10-5Pa；
抽速从大气抽至6.0×10-3Pa≤15min；
可镀膜尺寸2英寸1片，散片若干；
基片加热与旋转衬底加热：室温～450℃，自动测温，PID控温；
基片旋转：0-20转/分钟，可调可控；
溅射靶规格2英寸，配3只；
膜厚不均匀性≤±5%；
靶材尺寸，φ2英寸，厚度3-5mm
3、 主要功能：可制备亚微米、纳米尺度的单层、双层或多层金属膜、非金属薄膜。